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　　三星SDI正(zhèng )在考虑将干(gàn )法电极技术应用于全固(gù )态电(diàn )池

　　相较(jiào )于硅基半导(dǎo )体，以碳化(huà )硅和氮化镓(jiā )为代表的宽(kuān )禁带(dài )半导体在材(cái )料端至器件(jiàn )端的性能优(yōu )势突出，具(jù )备高(gāo )频、高效、高功率、耐高压、耐高(gāo )温等特点，是未来半导(dǎo )体行业发展(zhǎn )的重要方向(xiàng )。其(qí )中，碳化硅(guī )的高禁带宽(kuān )度、高击穿(chuān )电场强度、高电子饱和(hé )漂移速率和高热导率等(děng )特性(xìng )，使其在电(diàn )力电子器件(jiàn )等应用中发(fā )挥着至关重(chóng )要的作用。碳化(huà )硅材料在功(gōng )率半导体器(qì )件、射频半(bàn )导体器件及(jí )新兴(xìng )应用领域具有广阔的市场应用(yòng )潜力(lì )。光大证券(quàn )指出，随着(zhe )AI数据中心、AR眼镜等行业(yè )的增(zēng )长，碳化硅(guī )行业将随之(zhī )快速增长。国内碳化硅(guī )衬底企业持(chí )续投资扩张产能，有望(wàng )持续(xù )扩大市场份(fèn )额。

　　产(chǎn )能释放叠加(jiā )规模化效应(yīng )，这类材料(liào )应用(yòng )场景不断拓(tuò )展

　　得益(yì )于政策利好(hǎo )与技术突破(pò )的双(shuāng )轮驱动，未来3年至5年，脑机接(jiē )口医(yī )疗产品有望(wàng )迎来爆发期(qī )。太平洋证(zhèng )券分析指出(chū )，脑(nǎo )机接口技术(shù )近年来从实(shí )验室研究大(dà )步迈向市场(chǎng )应用，展现(xiàn )出蓬勃发展态势。当下(xià )，侵(qīn )入式和非侵(qīn )入式产品研(yán )发均有序推(tuī )进。尽管该(gāi )技术仍处于(yú )早期(qī )发展阶段，但研发和应(yīng )用潜力巨大(dà )；随着技术(shù )的迭(dié )代和伦理规范的健全完善，脑(nǎo )机接(jiē )口有望让科(kē )技之光加速(sù )照进现实。

　　上海超(chāo )导科(kē )创板IPO获受理(lǐ )，拟募资12亿(yì )元

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　　媒体报(bào )道，近期，多家(jiā )企业陆续披(pī )露了其在固(gù )态电池领域(yù )的最新进展和量(liàng )产时间。业(yè )界认为，凭(píng )借高能量密(mì )度、高安全(quán )性和快速充电能力，固(gù )态电池有望成为(wéi )下一代电池(chí )的主流技术(shù )路线之一。随着技术研(yán )发与(yǔ )成本瓶颈不(bú )断突破，固(gù )态电池的产(chǎn )业化进程正(zhèng )在加速，未来有望在低空经济、机(jī )器人(rén )、新能源汽(qì )车等多重场(chǎng )景得到广泛(fàn )应用。

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